半导体材料(图)-器件光刻技术定制-广州器件光刻技术

器件光刻技术——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

有三种主要技术被用于在晶圆表面层产生独立层图形。它们是：

1. 在一块石英板上铬层的芯片专门层的图形。依此使用reticle来产生一个携带用以整个晶圆图形的光刻板。

2. reticle 可以使用步进光刻机，直接用于晶圆表面层的图形。

3. 在图形发生器中的电路层的信息可以直接用于引导电子束或其他源到晶片表面。

这里描述的十步基本图形化工艺在对准和---步骤使用光刻板。图形转移是通过两步来完成的。

欢迎来电咨询半导体研究所了解更多器件光刻技术

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进入21世纪以来，器件光刻技术加工，随着摩尔定律的失效大限日益临近，寻找半导体材料替代品的任务变得非常紧迫。在多位选手轮番登场后，有两位---，它们就是氮化镓(gan)和碳化硅(sic)——并称为第三代半导体材料的双雄。

小编认为相对于si，sic的优点很多：有10倍的电场强度，高3倍的热导率，器件光刻技术定制，宽3倍禁带宽度，高一倍的饱和漂移速度。

因为这些特点，用sic制作的器件可以用于的环境条件下。微波及高频和短波长器件是目前已经成熟的应用市场。42ghz频率的sic mesfet，用在了相控阵雷达、通信广播系统中，用sic做为衬底的高亮度蓝光led则是全彩色大面积显示屏的关键器件。

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